西北工业大学分析测试中心系列讲座（第十三期）

一、报告题目：新型高效率聚焦离子/电子双束电镜在材料领域应用介绍

二、报告人：韩伟（赛默飞世尔科技公司 首席产品专家）

三、讲座时间：2019年6月14日（星期五），14:30-16:30

四、讲座地点：友谊校区研究生西馆XA309

五、报告摘要：

1.（无Ga污染）薄/厚样品制备与加工

在传统双束的加工之中有一个缺点就是Ga离子的污染，Ga离子以高能量轰击样品表面时，可以钻入样品表层一定深度并停留在样品内部，这些问题当我们采用Xe等离子源都可以避免，因为Xe离子比Ga离子更大，同样加速电压下穿深度更小，因而所制备的薄样品上非晶层去也更少。透惰性气体性能稳定，不易与其他元素产生化学反应。不容易生成化合物驻留在样品表层内部。

2. 大尺寸样品加工与制备

根据应用表现Ga离子加工区域通常不大于50微米，更大面积/体积的加工会带来时间成本的上升。而Xe等离子束突破了这些方面的极限，因为Xe离子束束流可达2个微安以上，而Ga离子束束流通常在60nA以下；另外从溅射效率上对大多数样品Xe离子的溅射效率更高。因而从总体加工效率上看Xe离子束可达Ga离子束的20-100倍。

Xe等离子作为一直全新的离子源为微纳尺度范围加工提供不可替代的性能，加工范围最大可达1mm尺度，打通了从宏观到微观加工的桥梁，必将成为科研和工业领域的一个利器。

本次报告还将介绍在双束其他方面的最新进展，如三维重构及自动化TEM样品制备等等。

六、报告人简介：

韩伟，自2017年起担任首席产品专家。他于2010年加入赛默飞世尔科技中国，担任高级应用工程师。2010年之前，韩伟曾担任Techcomp中国EM产品部门的产品经理。韩伟在北京工业大学获得金属材料硕士学位（1998年）。在德国克劳斯塔尔技术大学的物理学博士学位（2004年）。

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