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  • 电子束曝光系统

    品牌:NanoBeam Limitd 型号:nB5 简介:采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义,可实现纳米量级的精度,满足超紧凑和超精细的纳米结构设计,是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术,是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。
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