电子束曝光系统（EBL）免费试运行通知

电子束曝光系统是集成电路微纳器件以及航天、卫星、军工等特种芯片和半导体精密掩膜制造的关键技术，是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。为了满足我校多学院课题组的微纳加工需求，校分析测试中心购置了NanoBeam Limited（NBL）公司生产的电子束曝光系统（EBL）一套，现已完成了工艺调试，拟于5月16日面向校内外用户试运行，欢迎校内外师生预约测试！NanoBeam电子束曝光系统包括高精度样品台、高速图形发生器、图形识别自动套刻等先进的电子束曝光技术，能够同时满足超高分辨率和大面积图形的微纳加工要求，是致力于开拓微纳加工前沿领域的科研机构的理想工具。

一、设备信息

设备名称：电子束曝光系统（EBL）；

品牌：NanoBeam Limitd；

型号：nB5

二、设备技术指标

1、电子光学系统

1.1热场发射电子束源的加速电压可以达到100kv；

1.2最小束斑≤5nm；

1.3束写范围大于150mm×150mm；

1.4成像放大倍数≥30万倍。

2、样品室

2.1工作台行程范围：X：200mm，Y：200mm；

2.2工作台位置控制精度：XY方向0.31nm；

2.3系统提供6英寸、4英寸、2英寸以及不规则小样品的样品台，不规则样品尺寸为5mm-50mm；

3、EBL单元

3.1高分辨电子束曝光的最小特征尺寸≤10nm；扫描频率：≥50MHz；

3.2步距增量≤1nm，尺寸20um；

3.3拼写/套刻精度≤25nm；

3.4可以接受多种外部数据格式，如GDSII、DXF、CIF等；

四、试运行办法

1. 试运行时间：5月16日至6月15日；

2. 试运行模式：采用机时预约测试，中心设备管理老师根据预约情况提前与用户沟通具体工艺；

3. 试运行收费标准：校内免费，校外800元/小时。

光刻胶、显影液、晶圆等耗材需用户自备或按照实际费用收取，目前，光刻胶由于保质期短，未有存量。工艺过程中的表征测试，如扫描电镜、台阶仪、膜厚仪等，需用户自行表征测试，相关费用由用户承担；匀胶机、加热板、超声清洗机及常用化药（异丙醇、乙醇）等，校内/外均免费使用。

4. 样品说明和要求：见预约系统EBL设备的公告栏；如有疑问请咨询设备管理老师；

6. 设备测试和放置地点：长安校区实验大楼B105超净室内；

7. 设备管理老师：赵晨阳；

8. 测试咨询电话：029-88430850或18709265855；

9. 注册账号流程网址：http://atc.nwpu.edu.cn/index/cslc.htm

10. 测试中心账号管理员：郑调，电话029-88460747。