仪器列表

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  • 等离子刻蚀ICP

    品牌:Oxford Instruments 型号:Plasma Pro 100 Cobra300 简介:可用于硅,二氧化硅,氮化硅,碳化硅表面微纳结构的刻蚀。六种标准工艺:High rate DSiE,High Aspect Ratio DSiE, SiO2 shallow etch(RIE Mode and ICP Mode),SiN etch, SiC etch.
  • 多功能物性测量系统PPMS

    品牌:英国Cryogenic 型号:CFMS-14T 简介:在低温强磁场下测量磁学,热学,电输运特性。
  • 电子束曝光系统

    品牌:NanoBeam Limitd 型号:nB5 简介:采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义,可实现纳米量级的精度,满足超紧凑和超精细的纳米结构设计,是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术,是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。
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