品牌：Oxford Instruments 型号：Plasma Pro 100 Cobra300 简介：可用于硅，二氧化硅，氮化硅，碳化硅表面微纳结构的刻蚀。六种标准工艺:High rate DSiE，High Aspect Ratio DSiE, SiO2 shallow etch(RIE Mode and ICP Mode),SiN etch, SiC etch.

品牌：英国Cryogenic 型号：CFMS-14T 简介：在低温强磁场下测量磁学，热学，电输运特性。

品牌：NanoBeam Limitd 型号：nB5 简介：采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义，可实现纳米量级的精度，满足超紧凑和超精细的纳米结构设计，是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术，是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。