西北工业大学分析测试中心系列讲座（第十八期）

一、报告题目：微区表面分析技术特点及应用

二、报告人：鞠焕鑫（PHI (China) Limited 应用科学家）

三、讲座时间：2019年12月19日（星期四），14:00-16:00

四、讲座地点：友谊校区研究生西馆XA203

五、报告摘要：

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中开展表面特性研究所必需的实验技术。在科学研究和产业领域，具备微区分析功能的表面分析技术对解决复杂问题具有重要的作用。例如先进的扫描聚焦式多功能XPS分析设备集成了多项表面分析技术（XPS -UPS-IPES-GCIB），可以提供包括芯能级、价带和导带的全面电子结构信息，并具备微区分析能力（<10 um），同时结合溅射离子源实现了逐层解析的深度分析能力，为表面特性研究提供强有力的技术支持。在本报告中，将重点介绍表面分析技术（XPS/AES/TOF-SIMS）的微区分析特点及应用，同讲解XPS/UPS数据处理过程包括谱图定量分析、化学态解析以及谱图拟合等内容。欢迎感兴趣的老师和同学来听报告，并就能谱技术问题开展深入的交流与探讨。

六、报告人简介：

鞠焕鑫，博士，PHI (China) Limited 高德英特（北京）科技有限公司应用科学家。2009年-2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位。2012-2103年在美国华盛顿大学（西雅图）化学系联合培养。2016年6月-2018年10月，中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员，负责中国科学技术大学国家同步辐射实验室催化与表面科学实验站的运行管理，主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源器件界面电子性质研究。在学术研究方面与用户合作在Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文80余篇；主持/参与多个国家自然科学基金项目。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特（北京）科技有限公司，担任应用专家，负责PHI南京实验室的创建以及运行管理。

欢迎校内外师生参加与交流！