校分析测试中心组织等离子刻蚀系统工艺培训讲座

校分析测试中心购置的牛津仪器Plasma Pro 100等离子刻蚀系统，安装在学校长安校区实验大楼B105超净实验室，近期正在进行安装调试。为了让全校师生更多地了解ICP刻蚀的工艺原理，助力校内有ICP刻蚀需求的各课题组科研，2018年3月29日下午14:00至16:00，校分析测试中心特邀请牛津仪器公司等离子技术高级应用工程师廖春渊在理学院学术报告厅进行了ICP刻蚀的工艺培训讲座。理学院和机电学院等多个学院的50余名师生参加，本次培训由校分析测试中心助理研究员王杰老师主持。

工程师首先对牛津仪器公司进行了简单介绍，然后详细地讲解了等离子刻蚀技术的基本原理和基本的概念，最后结合我中心的这台Plasma Pro 100 Cobra 300对Bosch、Cryo DSiE、Mixed Gas等多种硅刻蚀工艺的进行了介绍。最后的问答环节中，师生踊跃提出了自己在工艺理解和刻蚀过程中遇到的常见问题，廖工都做了专业详细的解答，现场气氛活跃。

目前该设备已经完成高速率深硅刻蚀、二氧化硅RIE刻蚀、氮化硅刻蚀三种指标工艺的调试，这三个工艺已经完全达到技术指标要求，近期将对全校师生开放使用，具体开放日期请关注校分析测试中心官网和公众号。欢迎有兴趣的师生与校分析测试中心的王杰老师联系，咨询ICP刻蚀的相关内容，邮箱：jiewang@nwpu.edu.cn，电话：029-88430850。