电子束曝光系统应用案例

电子束曝光是指利用高能电子束在抗蚀剂（高分子聚合物）上制造图形的工艺。与普通光学曝光相比，电子束曝光的分辨率不受光波衍射效应的限制，至少要比普通光学曝光高一个数量级，可实现纳米量级的精度，满足超紧凑和超精细的纳米结构设计，是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。

                             图1 电子束曝光系统实物图          图2 工艺流程图  

图3-5所示为利用电子束曝光系统加工的光子晶体微型器件，包括光子晶体纳米梁光学腔、光子晶体微腔以及孔径渐变型光子晶体光栅。通过采用正性电子束胶（AR-P 6200）、图形补偿及剂量校正等工艺技术，实现了孔径为50-200nm的光子晶体结构及器件，支撑了多个科研团队发表了多篇高水平论文，包括《Advanced Materials》、《Photonics Research》、《Laser Photonics Rev.》等。

 图3 光子晶体纳米梁光学腔

图4 光子晶体微腔

图5 孔径渐变型光子晶体光栅