研究方向：主要从事微纳光子学的基础和应用研究，包括：微纳光子结构的设计与研究、光子晶体的制备及新型应用、片上光子集成器件及回路。 熟练掌握电子束曝光系统（EBL）、等离子体刻蚀（ICP）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）以及光学显微镜。 在国际著名SCI期刊上发表论文11篇（JCR一区和二区论文共8篇）；以第一作者发表SCI论文4篇（其中二区3篇），包括：美国光学学会（OSA）重要光学期刊《Optics Express》1篇（影响因子: 3.307），《Optics Letters》1篇（影响因子: 3.416），国际电子电气工程学会（IEEE）重要期刊《Journal of Lightwave Technology》1篇（影响因子: 2.567)，以及光学领域著名期刊《Applied Optics》1篇（影响因子: 1.598）。已获授权国家发明专利1项，已公开国家发明专利3项。多次参加国际和国内学术会议。 | 
