仪器列表

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  • 差示扫描量热仪DSC

    差示扫描量热仪DSC品牌:德国耐驰型号:DSC214简介:这台差示扫描量热仪DSC214,配备有液氮和机械双制冷,温度范围是-170℃~600℃,升温速率最慢为0.01k/min,最快可达500k/min。在-50℃-300℃时,基线漂移仅为±10µW。另外该设备配备有自动进样器ASC。广泛应用于塑料、橡胶、纤维、涂料、粘合剂、医药、食品、生物有机体、无机材料、金属材料与复合材料等各类领域,可以研究材料的熔融与结晶过程、玻璃化转变、相转变、液晶转变...
  • 高精度纳米力学测试系统

    高精度纳米力学测试系统 品牌:Hysitron型号:TI980
  • 电子式万能材料试验机

    品牌:钢研纳克检测技术股份有限公司 型号:GNT100 简介:用于金属、非金属材料的室温拉伸、弯曲、压缩等试验,可根据国家标准进行试验和提供数据。采用全数字三闭环微机控制,操作简单方便具有试验保护功能。软件中设置了不同的试验方法,用户可根据需要自行设定试验方法。
  • 聚焦离子/电子双束电镜(FIB)

    品牌:FEI 型号:Helios G4 CX 简介:Helios G4 CX聚焦离子/电子双束电镜将超高分辨率场发射电子镜筒和高精度的聚焦离子镜筒结合在一起,可对材料进行微纳米表征、微纳加工和TEM样品定点制备等。
  • 场发射高分辨透射电子显微镜

    品牌:FEI 型号:Talos F200X 简介:在二维和三维微纳米级尺度下对材料进行快速准确的形貌观察、晶体结构分析、定性定量表征和原位动态试验。
  • 等离子刻蚀ICP

    品牌:Oxford Instruments 型号:Plasma Pro 100 Cobra300 简介:可用于硅,二氧化硅,氮化硅,碳化硅表面微纳结构的刻蚀。六种标准工艺:High rate DSiE,High Aspect Ratio DSiE, SiO2 shallow etch(RIE Mode and ICP Mode),SiN etch, SiC etch.
  • 多功能物性测量系统PPMS

    品牌:英国Cryogenic 型号:CFMS-14T 简介:在低温强磁场下测量磁学,热学,电输运特性。
  • 电子束曝光系统

    品牌:NanoBeam Limitd 型号:nB5 简介:采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义,可实现纳米量级的精度,满足超紧凑和超精细的纳米结构设计,是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术,是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。
  • 透射电镜原位纳米力学测试系统

    品牌:Hysitron 型号:PI95 简介:可以在透射电镜中精确地定位压头并对变形过程成像,同时得到定量的载荷和位移的数据。
  • 扫描电镜原位纳米力学测试系统

    品牌:Hysitron 型号:PI85 简介:可以在扫描电镜中精确地定位压头并对变形过程成像,同时得到定量的载荷和位移的数据。
  • 透射电镜原位液体加热电化学样品杆

    品牌:Protochips 型号:Poseidon Select 简介:在透射电子显微镜内原位研究液体材料、液体加热和电化学性能。
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