型号

nB5

收费标准

待定

指标参数

1、电子光学系统

1.1热场发射电子束源的加速电压可以达到100kv；

1.2最小束斑≤5nm；

1.3束写范围大于150mm×150mm；

1.4成像放大倍数≥30万倍。

2、样品室

2.1工作台行程范围：X：200mm，Y：200mm；

2.2工作台位置控制精度：XY方向0.31nm。

3、EBL单元

3.1高分辨电子束曝光的最小特征尺寸≤10nm；扫描频率：≥50MHz；

3.2步距增量≤1nm，尺寸20um；

3.3拼写/套刻精度≤25nm。

主要应用

集成电路掩膜版制作、电子/半导体器件、微/纳电机系统、生物芯片等

样品要求

1、系统支持多种规格的样品；

2、可以接受多种外部数据格式，如GDSII、DXF、CIF等；

放置地点

长安校区 实验大楼B105超净室

负责人及联系方式

赵晨阳老师：18709265855