微纳加工

电子束曝光系统


EBL2

电子束曝光系统

 

品牌:NanoBeam   Limitd

型号:nB5

简介:采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义,可实现纳米量级的精度,满足超紧凑和超精细的纳米结构设计,是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术,是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。

品牌

NanoBeam   Limitd

型号

nB5

收费标准

待定

指标参数

1、电子光学系统

1.1热场发射电子束源的加速电压可以达到100kv

1.2最小束斑5nm

1.3束写范围大于150mm×150mm

1.4成像放大倍数30万倍。

2、样品室

2.1工作台行程范围:X200mmY200mm

2.2工作台位置控制精度:XY方向0.31nm

3EBL单元

3.1高分辨电子束曝光的最小特征尺寸10nm;扫描频率:50MHz

3.2步距增量1nm,尺寸20um

3.3拼写/套刻精度25nm

主要应用

集成电路掩膜版制作、电子/半导体器件、微/纳电机系统、生物芯片等

样品要求

1、系统支持多种规格的样品

2、可以接受多种外部数据格式,如GDSIIDXFCIF等;

放置地点

长安校区 实验大楼B105超净室

负责人及联系方式

赵晨阳老师:18709265855

 

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