品牌：NanoBeam Limitd 型号：nB5 简介：采用了高度聚焦的电子束对所需器件进行版图定义，可实现纳米量级的精度，满足超紧凑和超精细的纳米结构设计，是集成电路微纳器件和半导体精密掩膜制造的关键技术，是微电子、微机械、微纳米光学研究的必配设备。