型号

Talos F200X

收费标准

校内500/h，校外800/h

指标参数

加速电压：200 KV 电子枪：肖特基热场发射 TEM点分辨率：0.25nm TEM信息分辨率: 0.12 nm STEM分辨率: 0.16 nm 样品倾斜角度X/Y：±30° 可同时采集4X幅来自不同角度的电子信号，明场 (BF)，环形明场(ABF)，环形暗场(ADF)和大角度环形暗场(HAADF)的图像。

主要应用

对各种材料内部微结构进行观察 粉末、纳米颗粒形貌和粒径观察 选区电子衍射和晶体结构分析 金属、陶瓷、半导体、塑料、等显微结构分析 配合能谱仪可以对样品元素做面分布分析，以及各种元素进行定性和半定量微区分析，选择特定设计的样品台进行原位动态实验。

样品要求

1、 透射电镜不做磁性样品；  2、 对于粉末样品，要求样品均匀分散在支持膜上并且干燥，能够区分支持膜正反面； 3、 对于块体样品，要求样品大小为直径3mm的圆，厚度为200nm以下；4、 高分辨样品要求厚度在10nm以下。

不测磁性样品原因

中心Talos F200X透射电镜是一台场发射高分辨透射电镜，如果所测样品为磁性材料，磁性材料会影响物镜极靴磁场特性的变化，进而降低电镜的分辨本领。如果磁性材料为纳米颗粒，则对物镜极靴影响更为严重，磁性颗粒很容易吸附到物镜上，污染镜筒光路，造成电镜不可修复性损伤。

学习资料

参见官网学习交流板块。

放置地点

长安校区 实验大楼B105

负责人及联系方式

王杰老师：15929947710

杨修波老师：17319977397